ドイツ・Robeco社製 プラズマ発生装置 「MICRO-200-CI-VA-P20/P30」

概要:
MICRO-200は、真空装置内で、2.45GHzのマイクロ波を使い、強制的にプラズマを発生させる装置です。従来型のスパッタ装置にアシスト部品として追加する事によって、ECRスパッタ環境を構築する事が可能となります。マグネット強度やカソード電圧に依存することなく、個別にプラズマを制御する事が可能となります。

摘要:
ECR (電子サイクロトロン共鳴)スパッタ環境の構築

特徴:
-. カソード電圧に依存せずにプラズマを制御できる為、低電圧での成膜が可能となり、基板への熱ダメージを低減可能となります。
-. 従来型のスパッタ装置のプラズマよりも、高密度且つ高イオン化率のプラズマを発生させる為、成膜速度の向上を期待できます。
-.低真空圧環境でも、高密度・高活性なプラズマ発生させる為、酸化物や窒化物等リアクティブスパッタに有効な環境を構築可能となります。