米国・SCI製　入射角調整式　グリッドレス型リニアイオンソース「ALIS」

アノード型リニアイオンソース（Anode Linear Ion Source: ALIS）の効果：

• 汚染物質を除去し、表面エネルギーを向上
• ヘイズ（曇り）や欠陥を低減
• 密着性を改善
• 膜成長を促進
• 濡れ性を向上（接触角を低減）

得られる最適なプロセス性能：

• 高速なエッチングと均一性
• プロセスの安定性
• 長期稼働（キャンペーンタイム）
• メンテナンスの容易

🔷 ALISイオンソースとは

次世代グリッドレス型リニアイオンソースとして、ALISは従来のイオン源とは一線を画す性能と安定性を提供します。ナノスケールの加工・分析において、高分解能・低ダメージ・長寿命を実現する革新的なソリューションです。意図的にデフォルトのイオン吐出角度（基板に対する入射角）を45度に設定することで、従来型の2倍から3倍のエッチングレートを実現します。最終的な納品時の角度は、ユーザーのチャンバー仕様に応じ設計します。

45度の入射角で最大のエッチレートを実現	アプリケーションによってArにO2を混合

⚙️ 原理：閉じたドリフト型 × グリッドレス構造

ALISは、高電圧アノードと接地カソード間に形成されるExB場によって電子を閉じ込め、壁面との衝突でプラズマを生成。そこからイオンを抽出・加速します。

• グリッドレス構造：加速・集束用のグリッドが存在せず、アークや粒子発生を抑制
• ガウス型エネルギー分布：イオンのエネルギーが滑らかに広がり、表面処理が均一
• 中性化補助：理論上不要だが、より精密性を求められるプロセスでは、ホローカソード等の電子源と併用し、帯電防止とビーム安定化を実現し、アーキングを低減

KRI製ホロカソード	ホロカソード等電子源

🧪 実績と応用例

• 反応性クリーニング（O₂）：接触角・テープテストで高評価、帯電抑制により均一処理
• 高エネルギーエッチング（Ar）：難加工材料にも対応、角度依存性を活かした最適化が可能
• ナノスケール観察・加工：サブナノメートルの分解能で、FIBやSEMとの組み合わせにも最適

処理無し	100％Arでの処理,  2kV, 560W/m	50%Ar-50%O2,  2kV, 560W/m	100%O2での処理,  2kV, 560W/m

註：接触角が、O2の混合度合いに応じ低下していることが見て取れます。

💡 ALISが選ばれる理由

「粒子が出にくい」「帯電しにくい」「長く使える」
それがALISの本質です。

従来の常識を覆すイオンソースとして、ALISは高精度・高信頼性・高効率を同時に実現。研究開発から量産ラインまで、最先端の加工・分析ニーズに応える唯一の選択肢です。

ご関心頂けましたら、何なりとお問合せいただけましたら幸いです。